Revisão Bibliográfica 36
Maria Luísa Martins Mendes
2.5.2 – MECANISMO DE PRODUÇÃO DE ÁTOMOS DE NITROGÊNIO
E TRANSFERÊNCIA DA ATMOSFERA PARA A SUPERFÍCIE DOS
COMPONENTES.
Como nos outros tipos de nitretação, a técnica em gaiola também é um
processo multiestágio, o qual envolve a transferência do nitrogênio da atmosfera do
plasma para a superfície da amostra, e então da superfície da amostra para dentro
do substrato. O mecanismo de produção de átomos de nitrogênio e transferência da
atmosfera para a superfície dos componentes é uma das principais diferenças entre
a nitretação a plasma, a gás ou em banho de sais (líquida), e entre a técnica da
gaiola e NI não existe diferença.
Vários modelos têm sido propostos para explicar o mecanismo de
transferência de massa em NI. Estes incluem o modelo de sputtering e
recondensação (EDENHOFER,1974), implantação de íons de nitrogênio (XU e
ZHANG, 1987), bombardeamento com íons N
m
H
n
+
de baixa energia (HUDIS, 1973),
adsorção de nitrogênio (TIBBETTS, 1974) e adsorção de íons, átomos ou espécies
neutras (SZABO, 1984).
A teoria do bombardeamento íons N
2
-H
2
sugere que íons moleculares
nitrogênio-hidrogênio, por exemplo, NH
+
e NH
2
+
, têm papel decisivo na transferência
de massa em nitretação a plasma. Os íons moleculares de nitrogênio-hidrogênio se
dissociarão chocando-se sobre o cátodo, fornecendo o nitrogênio ativo, o qual
penetra a barreira superficial. Entretanto o fato de que a nitretação pode ser
realizada com uma mistura de gases N
2
+ Ar, tanto no processo NI como na gaiola,
indica que o hidrogênio, e por sua vez NH
+
e NH
2
+
, não são fundamentais para a
nitretação a plasma.
A teoria de implantação propõe que a nitretação é obtida pela penetração dos
átomos de nitrogênio de alta energia, ou pela implantação de íons de nitrogênio (N
+
).
Entretanto é conhecido que com íon implantação, a energia de íons pode ser alta
como 100 keV, já a profundidade de penetração de íons, por exemplo, N
+
é limitada
apenas ao topo da camada mais superficial dentro da faixa de 0,1 - 0,2 µm. Em
nitretação a plasma NI, a energia dos íons de nitrogênio é normalmente menor do
que 0,5 keV com um potencial de aproximadamente 500V entre o cátodo e o ânodo,
enquanto que na nitretação em gaiola, as amostras estão em um potencial flutuante,